| 主权项 |
一种显示装置之阵列板之制造方法，其包含以下步骤：(a)步骤，将一正型乾膜光阻黏附于一基材上，该正型乾膜光阻具有一正型光阻树脂层覆盖于一支撑膜上，如此该正型光阻树脂层系黏附于该基材之一表面上，其中，该正型光阻树脂层系由一组成物形成，该组成物包含有一硷溶性树脂、一重氮基正型感光化合物、一第一溶剂及一第二溶剂，该第一溶剂具有一高沸点，如此一第二溶剂可藉由加热方式实质自该组成物中去除，同时允许该第一溶剂仍实质保留于该组成物中；(b)步骤，将该支撑膜由已黏附于该基材表面之正型光阻树脂层去除；(c)步骤，利用光线曝光该正型光阻树脂层；(d)步骤，利用一硷性显影剂使该正型光阻树脂层进行显影；及(e)步骤，清洗并乾燥该正型光阻树脂层，以去除该正型光阻树脂层之曝光区域，其中，于该(d)步骤之前系另操作一(f)步骤，烘乾该正型光阻树脂层以去除该正型光阻树脂层所包含之第一溶剂。依申请专利范围第1项所述之显示装置之阵列板之制造方法，其中该(f)步骤系另于该(c)步骤之前操作。依申请专利范围第1项所述之显示装置之阵列板之制造方法，其中该(c)步骤系另于该(b)步骤之前操作，而该(f)步骤则系于该(b)步骤之后进行处理。依申请专利范围第1项所述之显示装置之阵列板之制造方法，其中该第一溶剂与第二溶剂之沸点差不低于50℃。依申请专利范围第1项所述之显示装置之阵列板之制造方法，其中该第一溶剂及该第二溶剂系选自以下组群的至少一个：乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇乙醚醋酸、二甘醇乙醚醋酸及丙二醇乙醚醋酸、丙酮、甲乙酮、乙醇、甲醇、丙醇、异丙醇、苯、甲苯、环戊酮、环己酮、乙二醇、二甲苯、乙二醇乙醚及二甘醇乙醚。依申请专利范围第1项所述之显示装置之阵列板之制造方法，其中该第一溶剂之沸点不低于100℃，而该第二溶剂之沸点低于100℃。依申请专利范围第3项所述之显示装置之阵列板之制造方法，其中该第一溶剂系选自以下组群的至少一种：甲苯、乙酸丁酯、环戊酮、乙二醇乙醚、二甲苯、环己酮、乙二醇、二甘醇乙醚、乙二醇乙醚醋酸、二甘醇乙醚醋酸及丙二醇乙醚醋酸之至少一个，而该第二溶剂系选自丙酮、甲醇、醋酸、甲乙酮、苯及异丙醇。依申请专利范围第1项所述之显示装置之阵列板之制造方法，其中该正型光阻树脂层基于100份重量之硷溶性树脂使用30至80份重量之重氮基正型感光化合物及30至120份重量之第一溶剂。依申请专利范围第8项所述之显示装置之阵列板之制造方法，其中该硷溶性树脂系选自酚醛清漆树脂。依申请专利范围第8项所述之显示装置之阵列板之制造方法，其中该重氮基正型感光化合物系选自以下组群的至少一种：1,2-苯二酮重氮-4-磺酸、1,2-萘醌重氮-4-磺酸氯化物及1,2-萘醌重氮-5-磺酸氯化物。 |
