| 主权项 |
一种足浴器，包含：本体壳体，于上方形成有开口部，具有用以收纳通过该当开口部而插入之足部之收纳空间；左足搭载台部，位于该收纳空间下方，用以搭载由该收纳空间所收纳之左足；右足搭载台部，位于该收纳空间下方，用以搭载由该收纳空间所收纳之左足；及加热部，配置于夹在该收纳空间内部中之该左足搭载台部与该右足搭载台部之间的中央位置，用以将加热液体所得之加热液体粒子排向该收纳空间之内部；该足浴器之中，作为该加热器外廓的加热部壳体，包含：左右两侧壁部，自该左足搭载台部与右足搭载台部下方直立；以及平坦之上壁部，连接该左右两侧壁部之上端；而使其沿前后方成为细长之箱型，于该加热部壳体内之中央部设置有锅炉，于该锅炉设置有锅炉加热器。如申请专利范围第1项之足浴器，其中，于该加热部壳体之内部设有混合排出机构，其系将加热液体粒子与空气混合并排向该收容空间之内部，于该加热部壳体之左右两侧壁之上端部分形成有空气导入口，于该加热部壳体之左右两侧壁之下端部分形成有混合气体排出口，且该左足搭载台部与右足搭载台部处于较该混合气体排出口上方之位置。如申请专利范围第2项之足浴器，其中更包含：加温部，系配置于围绕着该收纳空间之该本体壳体底部及周壁部的双方或一方，将收纳于该收纳空间之足部加温。如申请专利范围第3项之足浴器，其中于该加温部设置有保护部，用以防止该加温部与足部直接接触，于该保护部形成有贯通孔，自加温部侧朝收纳空间中央侧贯通。如申请专利范围第3或4项之足浴器，其中于该加温部设置有辐射构件，用以使热能辐射。如申请专利范围第5项之足浴器，其中该辐射构件系将辐射涂料涂布于板状构件所形成。如申请专利范围第3项之足浴器，其中更包含：温度侦测机构，用以侦测该加热部及该加温部之温度；及控制部，根据由该温度侦测机构所侦测之温度，而控制该加热部及该加温部。如申请专利范围第7项之足浴器，其中更包含操作部，用以选择在该加热部及该加温部之输出等级的组合。 |
