| 主权项 |
一种液晶显示装置，包含：一第一基板；一第二基板与该第一基板相对设置；一液晶层设置于该第一基板及该第二基板间；至少一配向结构，设置于该第一基板及该第二基板至少其中之一，其中该配向结构包含一第一配向物及一第二配向物，且该第一配向物部分覆盖该第二配向物并形成高低差，其中该配向结构两两之间隙形成一狭缝；以及一配向膜，设置于该第一基板与该第二基板之至少其中之一并覆盖该配向结构。如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置，其中该第一基板为彩色滤片基板，且该第一基板上更包含一透明电极；该第二基板为薄膜电晶体基板，且该第二基板上更包含一画素电极。如申请专利范围第2项所述之液晶显示装置，其中该配向结构为该透明电极之一部份。如申请专利范围第2项所述之液晶显示装置，其中该配向结构为该画素电极之一部份。如申请专利范围第2项所述之液晶显示装置，其中该画素电极上之该配向结构为凸块。如申请专利范围第2项所述之液晶显示装置，其中该透明电极上之该配向结构为凸块。如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置，其中该第一配向物及该第二配向物为凸块。如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置，其中该第一配向物及该第二配向物以相同材料构成。如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置，其中该第一配向物为不透光材质所构成。如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置，其中该第二配向物为透光材质所构成。如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置，其中该第二配向物由不同宽度或高度的凸块堆叠而成。如申请专利范围第11项所述之液晶显示装置，其中该第二配向物由不同透光度材质所构成。一种液晶显示装置之制造方法，包含：提供一基板，其包含一金属层；形成一光阻层于该金属层上；利用一光罩对该光阻层进行一微影步骤，其中该光罩包含一第一图案及一第二图案且具有不同的透光率；以该光阻层为一遮罩进行一蚀刻步骤以基于该第一图案与该第二图案分别形成一第一配向物及一第二配向物部分堆叠，其中该蚀刻步骤移除部分该金属层以形成该第一配向物及该第二配向物；以及形成一配向膜覆盖该基板、部分该第一配向物及部分该第二配向物。如申请专利范围第13项所述之液晶显示装置之制造方法，其中于形成该光阻层之前，更包含形成一第一配向层于该金属层上与形成一第二配向层于该第一配向层上。如申请专利范围第14项所述之液晶显示装置之制造方法，其中该蚀刻步骤移除部分该第一配向层与该第二配向层使该第二配向层暴露出部分该第一配向层。如申请专利范围第14项所述之液晶显示装置之制造方法，其中该第二配向层为不透光材质所构成。如申请专利范围第14项所述之液晶显示装置之制造方法，其中该第一配向层为透光材质所构成。如申请专利范围第13项所述之液晶显示装置之制造方法，其中该基板为一彩色滤片基板，且该金属层为一透明电极层。如申请专利范围第13项所述之液晶显示装置之制造方法，其中，该基板为薄膜电晶体基板，且该金属层为一画素电极层。 |
