| 发明名称 |
Waferäquivalent, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung |
| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Waferäquivalents, bei dem auf ein perforiertes Substrat dotierte Halbleiterschichten aufgebracht und im Anschluss kristallisiert werden. Ebenso betrifft die vorliegende Erfindung ein auf mit dem voranstehenden Verfahren hergestelltes Waferäquivalent sowie dessen Verwendungszwecke.</p> |
| 申请公布号 |
DE102010009454(A1) |
申请公布日期 |
2011.09.01 |
| 申请号 |
DE20101009454 |
申请日期 |
2010.02.26 |
| 申请人 |
FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.;ALBERT-LUDWIGS-UNIVERSITAET FREIBURG |
发明人 |
JANZ, STEFAN, DR.;MITCHELL, EMILY;LINDEKUGEL, STEFAN |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/324;H01L31/068;H01L31/18 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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