发明名称 |
Kontaktelemente von Halbleiterbauelementen, die einen kontinuierlichen Übergang zu Metallleitungen einer Metallisierungsschicht besitzen |
摘要 |
In komplexen Halbleiterbauelementen werden Kontaktelemente in der Kontaktebene hergestellt, indem die Kontaktöffnungen strukturiert und die Kontaktöffnungen mit dem Metall der ersten Metallisierungsschicht in einer gemeinsamen Abscheidesequenz gefüllt werden. Dazu wird in einigen anschaulichen Ausführungsformen ein Opferfüllmaterial in den Kontaktöffnungen vor dem Abscheiden des dielektrischen Materials der ersten Metallisierungsschicht vorgesehen. |
申请公布号 |
DE102010002451(A1) |
申请公布日期 |
2011.09.01 |
申请号 |
DE20101002451 |
申请日期 |
2010.02.26 |
申请人 |
GLOBALFOUNDRIES DRESDEN MODULE ONE LIMITED LIABILITY COMPANY & CO. KG;GLOBALFOUNDRIES INC. |
发明人 |
SEIDEL, ROBERT;FROHBERG, KAI;PETERS, CARSTEN |
分类号 |
H01L21/283;H01L29/41 |
主分类号 |
H01L21/283 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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