发明名称 Kontaktelemente von Halbleiterbauelementen, die einen kontinuierlichen Übergang zu Metallleitungen einer Metallisierungsschicht besitzen
摘要 In komplexen Halbleiterbauelementen werden Kontaktelemente in der Kontaktebene hergestellt, indem die Kontaktöffnungen strukturiert und die Kontaktöffnungen mit dem Metall der ersten Metallisierungsschicht in einer gemeinsamen Abscheidesequenz gefüllt werden. Dazu wird in einigen anschaulichen Ausführungsformen ein Opferfüllmaterial in den Kontaktöffnungen vor dem Abscheiden des dielektrischen Materials der ersten Metallisierungsschicht vorgesehen.
申请公布号 DE102010002451(A1) 申请公布日期 2011.09.01
申请号 DE20101002451 申请日期 2010.02.26
申请人 GLOBALFOUNDRIES DRESDEN MODULE ONE LIMITED LIABILITY COMPANY & CO. KG;GLOBALFOUNDRIES INC. 发明人 SEIDEL, ROBERT;FROHBERG, KAI;PETERS, CARSTEN
分类号 H01L21/283;H01L29/41 主分类号 H01L21/283
代理机构 代理人
主权项
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