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发明名称 DEPOSITION RATE CONTROL
摘要 An vapor deposition control system includes a multi-level control scheme.
申请公布号 US2011212256(A1) 申请公布日期 2011.09.01
申请号 US201113025431 申请日期 2011.02.11
申请人 FIRST SOLAR, INC. 发明人 BECK MARKUS E.;YU MING L.;MILSHTEIN EREL;BODKE ASHISH;BONNE ULRICH A.;GARABEDIAN RAFFI
分类号 C23C16/52;C23C16/455 主分类号 C23C16/52
代理机构 代理人
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