| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage sowie ein Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Beleuchtungssystem, welches mindestens ein variabel einstellbares Pupillenformungselement (4) aufweist, wobei die Beleuchtungsbelastung mindestens eines optischen Elements der Projektionsbelichtungsanlage bei einer Ein- oder Verstellung des mindestens einen variabel einstellbaren Pupillenformungselements automatisch ermittelt wird und anhand der automatisch ermittelten Beleuchtungsbelastung die maximale Strahlungsleistung der Lichtquelle eingestellt oder bestimmt wird und/oder bei welchem ein Beleuchtungssystem vorgesehen ist, mit dem unterschiedliche Beleuchtungseinstellungen vorgenommen werden können, wobei die Nutzung der Projektionsbelichtungsanlage protokolliert und aus der Historie der Nutzung mindestens ein Zustandsparameter mindestens eines optischen Elements der Projektionsbelichtungsanlage bestimmt wird.</p> |
