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发明名称 NEXT GENERATION NANO-DEVICE ETCHING APPARATURE FOR LOWER-DAMAGE PROCESS
摘要
申请公布号 KR20110098693(A) 申请公布日期 2011.09.01
申请号 KR20110018138 申请日期 2011.02.28
申请人 SUNGKYUNKWAN UNIVERSITY FOUNDATION FOR CORPORATE COLLABORATION 发明人 YEOM, GEUN YOUNG;PARK, BYOUNG JAE;KANG, SE KOO;YEON, JE KWAN;LIM, WOONG SUN;KIM, YI YEON
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
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