发明名称 |
用于测量磁场的传感器元件、磁场传感器和用于制造传感器元件的方法 |
摘要 |
一种用于测量磁场的传感器元件(42,42’),具有晶片结构(12),该晶片结构(12)具有半导体衬底(13)、绝缘层(14,14’)和半导体层(15,15’)。传感器元件具有穿过绝缘层(14,14’)穿通接触的凸模(16,16’),该凸模带有半导体衬底端面(17)、半导体层端面(18)和在半导体衬底(13)中的成对的平行的侧面(19;19’),其中所述端面(17,18)和侧面(19;19’)具有带有高导电性的区段(28,29,30),并且所述凸模(16,16’)在内部(27)中具有带低导电性的掺杂。 |
申请公布号 |
CN102169955A |
申请公布日期 |
2011.08.31 |
申请号 |
CN201110003497.9 |
申请日期 |
2011.01.10 |
申请人 |
罗伯特·博世有限公司 |
发明人 |
T.奥姆斯;M.凯克 |
分类号 |
H01L43/06(2006.01)I;H01L43/14(2006.01)I;G01R33/07(2006.01)I |
主分类号 |
H01L43/06(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
李少丹;李家麟 |
主权项 |
一种用于测量磁场的传感器元件(42,42’),具有晶片结构(12),其特征在于,该晶片结构(12)具有半导体衬底(13)、绝缘层(14,14’)和半导体层(15,15’),并且传感器元件具有穿过绝缘层(14,14’)穿通接触的凸模(16,16’),该凸模带有半导体衬底端面(17)、半导体层端面(18)和在半导体衬底(13)中的成对的平行的侧面(19;19’),其中所述端面(17,18)和侧面(19;19’)具有带有高导电性的区段(28,29,30),并且所述凸模(16,16’)在内部(27)中具有带低导电性的掺杂。 |
地址 |
德国斯图加特 |