发明名称 | 气相外延系统 | ||
摘要 | 一种气相外延系统,包括支撑用于气相外延的衬底的台板以及气体注入部件。气体注入器件将第一前驱体气体注入到第一区域中,将第二前驱体气体注入到第二区域中。至少一个电极位于第一区域中以使得第一前驱体气体分子流动到靠近电极。该至少一个电极定位为与第二前驱体气体的气流基本上隔离。电源电连接到该至少一个电极。电流产生加热该至少一个电极的电流,从而热激活流动到靠近该至少一个电极的第一前驱体气体分子中的至少一些,由此激活第一前驱体气体分子。 | ||
申请公布号 | CN102171795A | 申请公布日期 | 2011.08.31 |
申请号 | CN200980138852.4 | 申请日期 | 2009.10.01 |
申请人 | 维易科加工设备股份有限公司 | 发明人 | J·曼古姆;W·E·奎恩;E·阿莫 |
分类号 | H01L21/205(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/205(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 曲瑞 |
主权项 | 一种气相外延系统,包括:a.台板,支撑用于气相外延的衬底;b.气体注入部件,包括耦合到第一前驱体气体源的第一区域和耦合到第二前驱体气体源的第二区域,该气体注入部件将第一前驱体气体注入到第一区域中并将第二前驱体气体注入到第二区域中;c.至少一个电极,位于第一区域中以使第一前驱体气体分子流动到靠近该至少一个电极,并且该至少一个电极定位为与第二前驱体气体的气流基本上隔离;以及d.电源,具有电连接到至少一个电极的输出,该电源产生加热至少一个电极的电流,从而热激活流动到靠近至少一个电极的第一前驱体气体分子中的至少一些。 | ||
地址 | 美国新泽西 |