发明名称 |
一种激光全息防伪烫印膜 |
摘要 |
本实用新型涉及激光全息防伪技术领域,具体涉及一种激光全息防伪烫印膜,该激光全息防伪烫印膜,包括从上到下依次叠加设置的塑料载体薄膜层、分离层、成像层、介质层和热熔胶层,在分离层与成像层之间设置有阻热层。本实用新型的阻热层能够有效的保护成像层在高温工艺下不损失全息信息。本实用新型能够适应二次烫印、过塑、激光打印、贴标、喷码等需要加热的工艺,成功解决了普通全息防伪烫印膜不适应二次热加工的难题。本实用新型可以应用于乱版烫、专版烫以及定位烫。 |
申请公布号 |
CN201950978U |
申请公布日期 |
2011.08.31 |
申请号 |
CN201020552952.1 |
申请日期 |
2010.10.08 |
申请人 |
武汉华工图像技术开发有限公司 |
发明人 |
邱全升;郑成赋;李春阳;朱仕惠 |
分类号 |
B41M5/42(2006.01)I;G03H1/00(2006.01)I |
主分类号 |
B41M5/42(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种激光全息防伪烫印膜,包括从上到下依次叠加设置的塑料载体薄膜层、分离层、成像层、介质层和热熔胶层,其特征在于:在所述分离层与所述成像层之间设置有阻热层。 |
地址 |
430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区庙山华中科技大学科技园 |