发明名称 |
用于金属有机物化学沉积设备的气体分配装置 |
摘要 |
本发明公开一种用于金属有机物化学沉积设备的气体分配装置,包括:通过氮气管道连接到氮气气源的氮气分配管路,该氮气分配管路具有多个氮气分配支路;通过氢气管道连接到氢气源的氢气分配管路,该氢气分配管路具有多个氢气分配支路,其中,氮气分配管路的一个氮气分配支路与氢气分配管路的一个氢气分配支路连接,在连接处安装有连接处单向阀门,该连接处单向阀门打开时允许氮气通过其进入到氢气分配管路以执行吹洗操作、同时防止氢气通过其进入到氮气分配管路。本发明的气体分配装置可以实现气源气体的多路分配,准确控制各管路需要压力,从而实现不同使用目的的气体供应需要。 |
申请公布号 |
CN101812674B |
申请公布日期 |
2011.08.31 |
申请号 |
CN201010033962.9 |
申请日期 |
2010.01.07 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
王晓亮;冉军学;胡国新;肖红领;张露;殷海波;李晋闽 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I;C23C16/18(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王新华 |
主权项 |
一种用于金属有机物化学沉积设备的气体分配装置,包括:通过第一管道连接到第一气体的第一气源的第一分配管路,该第一分配管路具有多个第一分配支路;通过第二管道连接到第二气体的第二气源的第二分配管路,该第二分配管路具有多个第二分配支路,其中,第一分配管路的一个第一分配支路与第二分配管路的一个第二分配支路连接,在连接处安装有连接处单向阀门,该连接处单向阀门打开时允许第一气体通过其进入到第二分配管路以执行吹洗操作、同时防止第二气体通过其进入到第一分配管路。 |
地址 |
100083 北京市海淀区清华东路甲35号 |