发明名称 |
基于微机电系统技术的粘度传感器芯片及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开一种用于粘度传感器的基于MEMS技术的硅微悬臂梁式芯片及其制备方法,芯片结构为基于振动原理的三角形硅微悬臂梁结构,采用钛-铂-金梁式引线技术;本发明有很快的频率响应特性和极高的灵敏度,该MEMS粘度传感器测量范围为1mPa·s~100mPa·s、精度优于±5%FS,可以实现在静压值小于100MPa、环境温度-20℃~180℃下快速、在线、小样品量、准确地测量。 |
申请公布号 |
CN101738355B |
申请公布日期 |
2011.08.31 |
申请号 |
CN200910219368.6 |
申请日期 |
2009.12.08 |
申请人 |
西安交通大学 |
发明人 |
赵立波;张桂铭;蒋庄德;刘志刚 |
分类号 |
G01N11/10(2006.01)I;B81B7/02(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I |
主分类号 |
G01N11/10(2006.01)I |
代理机构 |
西安通大专利代理有限责任公司 61200 |
代理人 |
徐文权 |
主权项 |
一种基于微机电系统技术的粘度传感器芯片,包括N型单晶硅片,在N型单晶硅片正面0.1μm~0.2μm下采用高能氧离子注入技术形成的二氧化硅隔离层,采用气相淀积技术在硅片正面外延上层单晶硅厚度至0.4μm~2μm采用离子注入技术对其进行硼掺杂形成的P型掺杂硅,采用低压气相淀积技术在硅片正面淀积0.1μm~0.2μm厚的氮化硅应力匹配层,采用溅射工艺在硅片正面淀积0.1μm~0.3μm厚的钛‑铂‑金梁式引线层,该钛‑铂‑金梁式引线层经光刻后形成线圈和内引线,采用低压气相淀积技术在硅片正面淀积0.2μm~0.5μm厚的氮化硅电气绝缘层,利用掩膜版在电气绝缘层上刻蚀跳线孔,然后采用溅射工艺在硅片正面淀积0.3μm~0.8μm厚的钛‑铂‑金梁式跳线层,经过光刻后形成的跳线,采用低压气相淀积技术在硅片正面依次淀积0.2μm~1μm厚的二氧化硅保护层和0.2μm~1μm厚的氮化硅保护层,其特征在于:所述的芯片为基于振动原理的三角形硅微悬臂梁结构。 |
地址 |
710049 陕西省西安市咸宁西路28号 |