发明名称 |
用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器 |
摘要 |
本发明提出一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,包括:限定有反应腔的反应器本体,所述反应器本体的上部设有四氯化硅-空气入口和氢气入口,所述反应器本体的底部设有反应器出口;嘴套,所述嘴套套设在所述反应器本体的下端以与所述反应器本体限定出向下开口的环形空间;与所述嘴套相连以向所述环形空间内供给氢气的环隙氢气进口管;和设置在所述反应腔内用于均匀分布从所述四氯化硅-空气入口和所述氢气入口供给到反应腔内的四氯化硅-空气和氢气的分布器。根据本发明的反应器,用在用多晶硅副产物四氯化硅生产二氧化硅中,四氯化硅、氧气和氢气在该反应器内发生反应以生成氯化氢和纳米级二氧化硅,且结构简单,成本低。 |
申请公布号 |
CN102167335A |
申请公布日期 |
2011.08.31 |
申请号 |
CN201110066834.9 |
申请日期 |
2011.03.18 |
申请人 |
中国恩菲工程技术有限公司 |
发明人 |
严大洲;毋克力;肖荣晖;汤传斌;谢正和;杜俊平;谢冬晖;汪绍芬;郭富东 |
分类号 |
C01B33/12(2006.01)I;C01B7/01(2006.01)I |
主分类号 |
C01B33/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 |
代理人 |
宋合成 |
主权项 |
一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,其特征在于,包括:反应器本体,所述反应器本体内限定有反应腔,所述反应器本体的上部设有四氯化硅‑空气入口和氢气入口,所述反应器本体的底部设有反应器出口;嘴套,所述嘴套套设在所述反应器本体的下端以与所述反应器本体限定出向下开口的环形空间;与所述嘴套相连以向所述环形空间内供给氢气的环隙氢气进口管;和分布器,所述分布器设置在所述反应腔内用于均匀分布从所述四氯化硅‑空气入口和所述氢气入口供给到反应腔内的四氯化硅‑空气和氢气。 |
地址 |
100038 北京市海淀区复兴路12号 |