发明名称 离子注入机中靶室的一种高效加热装置
摘要 本实用新型属于离子注入技术领域,涉及一种离子注入机中靶室的加热装置。包括绝热绝缘材料制成的平台,朝上一面设有凹槽,凹槽内埋设加热丝,与外部电源相连,在加热丝上放置一层绝缘陶瓷片。平台采用碳酸钙材料制成。加热槽凹槽内的绝缘陶瓷片采用氮化硼薄片。加热丝采用单层加热丝。本实用新型装置能耗很低,发热效率高,可以实现局部高温,而对整个靶室温度影响小,不影响密封性的效果。
申请公布号 CN201956317U 申请公布日期 2011.08.31
申请号 CN201020649176.7 申请日期 2010.12.09
申请人 武汉大学;中国核动力研究设计院 发明人 郭立平;唐睿;胡聪;彭国良
分类号 H01J37/317(2006.01)I;H01J37/02(2006.01)I 主分类号 H01J37/317(2006.01)I
代理机构 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人 张火春;肖明洲
主权项 一种离子注入机中靶室的高效加热装置,其特征在于,包括绝热绝缘材料制成的平台(1),朝上一面设有凹槽(2),凹槽内埋设加热丝(3),与外部电源相连,在加热丝上覆盖一层绝缘陶瓷片(4)。
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