发明名称 |
离子注入机中靶室的一种高效加热装置 |
摘要 |
本实用新型属于离子注入技术领域,涉及一种离子注入机中靶室的加热装置。包括绝热绝缘材料制成的平台,朝上一面设有凹槽,凹槽内埋设加热丝,与外部电源相连,在加热丝上放置一层绝缘陶瓷片。平台采用碳酸钙材料制成。加热槽凹槽内的绝缘陶瓷片采用氮化硼薄片。加热丝采用单层加热丝。本实用新型装置能耗很低,发热效率高,可以实现局部高温,而对整个靶室温度影响小,不影响密封性的效果。 |
申请公布号 |
CN201956317U |
申请公布日期 |
2011.08.31 |
申请号 |
CN201020649176.7 |
申请日期 |
2010.12.09 |
申请人 |
武汉大学;中国核动力研究设计院 |
发明人 |
郭立平;唐睿;胡聪;彭国良 |
分类号 |
H01J37/317(2006.01)I;H01J37/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/317(2006.01)I |
代理机构 |
武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 |
代理人 |
张火春;肖明洲 |
主权项 |
一种离子注入机中靶室的高效加热装置,其特征在于,包括绝热绝缘材料制成的平台(1),朝上一面设有凹槽(2),凹槽内埋设加热丝(3),与外部电源相连,在加热丝上覆盖一层绝缘陶瓷片(4)。 |
地址 |
430072 湖北省武汉市武昌珞珈山 |