感光膜的曝光方法及曝光设备

摘要

本发明涉及感光膜的曝光方法及曝光设备。一种用于感光膜的曝光设备包括：多个发光二极管，其用于生成光以对感光膜进行曝光；遮光物，其位于所述多个发光二极管之间以防止噪声；载物台，其用于容纳其上具有所述感光膜的基板；以及平行器，其位于所述发光二极管与所述载物台之间，所述平行器用于将来自所述多个发光二极管的光重定向为垂直地入射到所述感光膜上。

主权项

一种用于感光膜的曝光设备，该曝光设备包括：多个发光二极管，其用于生成光以对感光膜进行曝光；遮光物，其位于所述多个发光二极管之间以防止噪声，其中所述遮光物为在所述多个发光二极管之间具有壁的格子形状；载物台，其用于容纳其上具有所述感光膜的基板；以及平行器，其位于所述发光二极管与所述载物台之间，其中，所述平行器将来自所述多个发光二极管的光重定向为平行光，所述平行器具有用于附接到所述格子形状的遮光物上的沟槽，所述沟槽形成在所述平行器的各个光学透镜之间。