发明名称 |
用于互连集成的非连续/非均匀金属帽盖结构及方法 |
摘要 |
提供了一种互连结构,其包括含有贵金属的帽盖,所述帽盖至少存在于嵌入互连介电材料中的至少一个导电材料的上表面的某部分上。在一个实施例中,含有贵金属的帽盖是非连续的,例如,作为至少一个导电材料的上表面上的核或岛而存在。在另一实施例中,含有贵金属的帽盖具有跨至少一个导电材料的表面的非均匀厚度。 |
申请公布号 |
CN102171810A |
申请公布日期 |
2011.08.31 |
申请号 |
CN200980138898.6 |
申请日期 |
2009.07.21 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
L·M·吉纳克;C·胡;S·米塔尔;C·杨 |
分类号 |
H01L21/70(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/70(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
于静;杨晓光 |
主权项 |
一种互连结构,其包括:介电材料,其具有约3.0或更小的介电常数和嵌入其中的至少一个导电材料,所述至少一个导电材料具有与所述介电材料的上表面共面的上表面;以及非连续的含有贵金属的帽盖,其至少存在于所述至少一个导电材料的所述上表面的某部分上。 |
地址 |
美国纽约 |