| 发明名称 |
METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND REACTION APPARATUS |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
KR20110097755(A) |
申请公布日期 |
2011.08.31 |
| 申请号 |
KR20117006252 |
申请日期 |
2009.11.26 |
| 申请人 |
SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. |
发明人 |
TAKADA TOMOYUKI;HATA MASAHIKO;YAMADA HISASHI |
| 分类号 |
H01L21/26;H01L21/20;H01L21/324 |
主分类号 |
H01L21/26 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
