回转反应炉热裂解氟硅酸钠制备四氟化硅的方法

摘要

本发明提供一种回转反应炉热裂解氟硅酸钠制备四氟化硅的工艺，将氟硅酸钠在200℃～300℃下在煅烧炉内干燥热处理，除去其中的水份，煅烧炉内维持负压，负压值控制在10～30mmH2O；将干燥后的氟硅酸钠送入回转反应炉，在500～900℃(物料温度)下热裂解1～2个小时，热裂解得到四氟化硅和氟化钠。产生的四氟化硅气体经过除尘、冷却、干燥、压缩、收集高纯的四氟化硅气体。本发明工艺过程反应物单一，无废气、废水、废渣排放，属于环保综合利用项目。

主权项

一种回转反应炉热裂解氟硅酸钠制备四氟化硅的方法，其特征在于包括以下步骤：(1)将氟硅酸钠在200℃～300℃下在回转煅烧炉内干燥热处理，除去其中的水份和杂质，煅烧炉内维持负压，负压值控制在10～30mm H2O；(2)将惰性助剂与干燥后的氟硅酸钠按1～8∶1质量比混合均匀送入回转反应炉，物料温度在500～900℃下反应1～2个小时，热裂解得到四氟化硅和氟化钠，回转反应炉内维持负压，负压值控制在5～20mm H2O，其中惰性助剂是氟化盐、二氧化硅、氧化铝；(3)产生的四氟化硅气体经过除尘、冷却、干燥、压缩、收集得高纯的四氟化硅气体。