发明名称 |
透明导电性层叠体及备有其的触摸屏 |
摘要 |
本发明的透明导电性层叠体的特征在于,它具有透明的膜基材、在所述透明膜基材的一面用干法工艺设置的厚度为1~30nm而相对折射率为1.6~1.9的SiOX膜(x大于等于1.5而小于2)、在所述SiOX膜上设置的厚度为10~50nm的SiO2膜以及在所述SiO2膜上设置的厚度为20~35nm的透明导电性薄膜。 |
申请公布号 |
CN101127254B |
申请公布日期 |
2011.08.31 |
申请号 |
CN200610112190.1 |
申请日期 |
2006.08.17 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
梨木智刚;菅原英男;吉武秀敏 |
分类号 |
G06F3/041(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I;H01B7/02(2006.01)I;B32B9/00(2006.01)I |
主分类号 |
G06F3/041(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
苗堃;刘继富 |
主权项 |
一种透明导电性层叠体,其特征在于,具有透明的膜基材、在所述透明膜基材的一面用干法工艺设置的厚度1~30nm而相对折射率为1.6~1.9的SiOX膜、在所述SiOX膜上设置的厚度为10~50nm的SiO2膜以及在所述SiO2膜上设置的厚度为20~35nm的透明导电性薄膜,所述SiOX膜中的x大于等于1.5而小于2。 |
地址 |
日本大阪府 |