发明名称 薄膜的检查装置和检查方法
摘要 本发明目的在于能够降低薄膜的基板面内的膜厚变动的影响,实现计测精度的提高。包括:对在璃基板上形成有薄膜的被检查基板(W)从该玻璃基板侧照射单波长的光的光源;以受光轴相对于从光源射出的照明光的光轴以预定的倾斜角度交叉的方式配置,对透过被检查基板(W)的扩散透过光进行受光的受光元件;和基于由受光元件接受的光的强度求出薄膜的雾度率的计算机(7)。计算机(7)具有将雾度率与扩散透过光的光强度建立关联而成的雾度率特性,利用该雾度率特性和由上述受光元件接受的光强度求出雾度率。
申请公布号 CN102165282A 申请公布日期 2011.08.24
申请号 CN200980138478.8 申请日期 2009.07.02
申请人 三菱重工业株式会社 发明人 坂井智嗣;川添浩平;山口贤刚;高野晓巳
分类号 G01B11/30(2006.01)I;G01N21/59(2006.01)I;G01N21/88(2006.01)I 主分类号 G01B11/30(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 高培培;车文
主权项 一种薄膜的检查装置,其特征在于,包括:光源,该光源对在玻璃基板上形成有薄膜的被检查基板从该玻璃基板侧照射单波长的光;受光部,该受光部以受光轴相对于从所述光源射出的照明光的光轴以预定的倾斜角度交叉的方式配置,接受透过所述被检查基板的扩散透过光;和处理部,该处理部基于由受光部接受的光的强度求出所述薄膜的雾度率,所述处理部具有将雾度率与扩散透过光的光强度建立关联而成的雾度率特性,利用该雾度率特性和由所述受光部接受的光强度求出所述雾度率。
地址 日本东京都