发明名称 掺杂气体供应设备以及掺杂气体供应方法
摘要 本发明提供了一种掺杂气体供应设备以及掺杂气体供应方法。根据本发明的掺杂气体供应设备包括:第一掺杂气体源;第二掺杂气体源;第一气体切换装置,其输入端连接至所述第一掺杂气体源以及所述第二掺杂气体源,以便接通所述第一掺杂气体源和/或所述第二掺杂气体源;以及第一气体质量流速控制器,其连接至所述第一气体切换装置的输出端。根据本发明的掺杂气体供应设备以及掺杂气体供应方法能够获得较宽范围的外延膜电阻率调节能力。
申请公布号 CN102162138A 申请公布日期 2011.08.24
申请号 CN201110009210.3 申请日期 2011.01.17
申请人 上海宏力半导体制造有限公司 发明人 黄锦才;薛健
分类号 C30B31/16(2006.01)I 主分类号 C30B31/16(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 郑玮
主权项 一种掺杂气体供应设备,其特征在于,包括:第一掺杂气体源;第二掺杂气体源;第一气体切换装置,其输入端连接至所述第一掺杂气体源以及所述第二掺杂气体源,以便接通所述第一掺杂气体源和/或所述第二掺杂气体源;以及第一气体质量流速控制器,其连接至所述第一气体切换装置的输出端。
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号