| 发明名称 | 一种气相沉积设备用的载盘结构 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种气相沉积设备用的载盘结构，是在一圆形盘体的上表面设置58～61个用来承载2寸圆形基板的圆形承载凹部，每一所述承载凹部的底面形成为往上方凸起的弧面，且该凹部的内径设有用于支撑一基板的支承部，所述弧面的最高位置低于该支承部的上表面。 | ||
| 申请公布号 | CN201942749U | 申请公布日期 | 2011.08.24 |
| 申请号 | CN201020608591.8 | 申请日期 | 2010.11.16 |
| 申请人 | 璨圆光电股份有限公司 | 发明人 | 王派天 |
| 分类号 | C23C16/458(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/458(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京华夏博通专利事务所 11264 | 代理人 | 刘俊 |
| 主权项 | 一种气相沉积设备用的载盘结构，其特征在于，在一圆形盘体的上表面设置58～61个用来置入2寸圆形基板的圆形承载凹部，每一所述承载凹部的底面形成为往上方凸起的弧面，且该凹部的内径设有用于支撑一基板的支承部，所述弧面的最高位置低于该支承部的上表面。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||