发明名称 |
聚焦元件、聚焦元件阵列、曝光装置及图像形成装置 |
摘要 |
本发明涉及聚焦元件、聚焦元件阵列、曝光装置及图像形成装置。提供了一种聚焦元件,其包括:发光元件,其产生在预定波长范围的光并发出扩散光;以及在布置在所述发光元件的光出射侧的记录层中的全息元件,通过利用从发光元件的波长范围选择的多个波长的光通过波长多路来记录所述全息元件,并且利用来自所述发光元件的扩散光照射所述全息元件,并且所述全息元件发出在预定聚焦点处会聚的衍射光。 |
申请公布号 |
CN102162933A |
申请公布日期 |
2011.08.24 |
申请号 |
CN201010288514.3 |
申请日期 |
2010.09.15 |
申请人 |
富士施乐株式会社 |
发明人 |
安田晋;三锅治郎;河野克典;小笠原康裕;林和广;立石彰 |
分类号 |
G02B27/42(2006.01)I;G02B5/32(2006.01)I;B41J2/45(2006.01)I;G03G15/04(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B27/42(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
李辉;王伶 |
主权项 |
一种聚焦元件,该聚焦元件包括:发光元件,其产生在预定波长范围的光并发出扩散光;以及全息元件,其位于布置在所述发光元件的光出射侧的记录层中,利用从所述发光元件的所述波长范围选择的多个波长的光,通过波长多路来记录所述全息元件,并且用来自所述发光元件的所述扩散光来照射所述全息元件,所述全息元件发出在预定聚焦点处会聚的衍射光。 |
地址 |
日本东京都 |