用于稳定、敏感性光检测器的材料、制造设备与方法及由其制成的影像感应器

摘要

光敏装置包含一装置，其包含第一触点及第二触点，各自具有功函数，及位于所述第一触点与所述第二触点之间的光敏材料。所述光敏材料包含p-型或n-型半导体，且所述光敏材料具有功函数。电路在所述第一触点和所述第二电路之间施加偏电压。所述光敏材料具有大于当将偏电压施加到所述第一触点和所述第二触点之间时从所述第一触点至所述第二触点的电子运行时间的电子寿命。所述第一触点提供电子的注入并阻断电洞的撷取。所述第一触点与所述光敏材料之间的界面提供少于1cm/s的表面重组速率。

主权项

一种光敏装置，包含：第一触点及第二触点，各自具有功函数；位于所述第一触点与所述第二触点之间的光敏材料，所述光敏材料包含p‑型半导体，且所述光敏材料具有功函数；被建构来在所述第一触点与所述第二触点之间施加偏电压的电路；所述光敏材料的功函数的大小比所述第一触点的功函数的大小大至少0.4eV，且还比所述第二触点的功函数的大小大至少0.4eV；所述光敏材料具有比当将所述偏电压施加在所述第一触点与所述第二触点之间时从所述第一触点至所述第二触点的电子运行时间大的电子寿命；该所述第一触点提供电子的注入并阻断电洞的撷取；且所述第一触点与所述光敏材料的界面提供少于1cm/s的表面重组速率。