制造用于亚毫米级导电栅格的具有亚毫米级开口的掩模的方法、具有亚毫米级开口的掩模和亚毫米级导电栅格

摘要

本发明涉及一种制造具有亚毫米级开口(10)的掩模(1)的方法，其中：对于遮蔽层，将稳定并分散在第一溶剂中的胶体纳米颗粒的溶液沉积，该颗粒具有给定的玻璃化转变温度Tg；在低于所述温度Tg的温度下进行所述遮蔽层的干燥，直到获得具有亚毫米级开口的二维网络的掩模，其具有基本上直的掩蔽区域边缘，在被称为网络掩蔽区域的区域中；通过机械和/或光学去除至少一个网络掩模区域的外部，在所述表面上形成无遮蔽的区域。本发明还涉及所述网络掩模(1)，和由此获得的具有导电固体区域的格栅。

主权项

一种制备具有亚毫米级开口(10)、尤其是具有微米级开口的掩模(1)的方法，在基底(2)的主表面上，通过沉积给定溶液的液体遮蔽层、并使其干燥来形成亚毫米掩模，其特征在于，‑对于所述遮蔽层，将稳定并分散在溶剂中的胶体纳米颗粒的溶液沉积，该纳米颗粒具有给定的玻璃化转变温度Tg；‑在低于所述温度Tg的温度下进行所述遮蔽层的干燥，直到获得被称为网络掩模的具有亚毫米级开口的二维网络的掩模，其具有基本上直的掩模区域边缘，该掩模位于被称为网络掩模区域的区域之上；且特征在于，该方法包括通过机械和/或光学去除网络掩模区域的至少一个外部，在所述表面上形成无遮蔽的区域。