| 发明名称 | 投影曝光装置、器件制造方法以及光学部件 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种投影曝光装置、器件制造方法以及光学部件。曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。 | ||
| 申请公布号 | CN102163005A | 申请公布日期 | 2011.08.24 |
| 申请号 | CN201110089902.3 | 申请日期 | 2004.12.03 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 星加隆一;石泽均 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 一种在投影曝光装置的基片载台上安装的光学部件，上述投影曝光装置用曝光束照明掩模，利用投影光学系统将上述掩模的图案经液体转印到保持在上述基片载台上的基片上，其特征在于，具备：被上述曝光束照射的光照射面；利用在上述光照射面的表面上形成的由二氧化硅、氟化镁和氟化钙中的至少一种构成的微粒子层构成的粘接微粒子层；以及利用在上述粘接微粒子层的表面上形成的非晶质氟树脂构成的疏水性膜。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||