发明名称 具立体纹路结构之基板
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.08.21
申请号 TW100203554 申请日期 2011.03.01
申请人 台湾铭板股份有限公司 发明人 曾宥勋
分类号 H05K1/02 主分类号 H05K1/02
代理机构 代理人 李国光 新北市中和区中正路880号4楼之3;张仲谦 新北市中和区中正路880号4楼之3
主权项 一种具立体纹路结构之基板,其包含:一第一基材;以及一第一光固化胶层,系位在该第一基材之一面上方,且于该第一光固化胶层背对该第一基材之一面,设有自一子板复制之一微结构,该微结构设有立体视觉之纹路。如申请专利范围第1项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第一基材与该第一光固化胶层之间更包含:一第一色彩涂层,系设在该第一基材之一面;以及一第一强化胶层,系设在该第一色彩涂层背对该第一基材之一面。如申请专利范围第2项所述之具立体纹路结构之基板,其中该子板更包含:一第二基材;一第一介质层,系设在该第二基材之一面;一第二光固化胶层,系设在该第一介质层背对该第二基材之一面;以及一第三光固化胶层,系设在该第二光固化胶层背对该第一介质层之一面,并具有离形性,且该第三光固化胶层于背对该第二光固化胶层之一面,设有自一母板复制之一第一立体结构,且该第一立体结构与该微结构互补。如申请专利范围第1项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第一基材系为金属材质。如申请专利范围第1项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第一光固化胶层系为UV胶。如申请专利范围第2项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第一色彩涂层系为UV油墨。如申请专利范围第2项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第一强化胶层系为UV胶。如申请专利范围第3项所述之具立体纹路结构之基板,其中该母板系设有一第二立体结构,且该第二立体结构与该第一立体结构互补。如申请专利范围第3项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第一光固化胶层系自该第三光固化胶层被离形,而转至该第一强化胶层背对该第一色彩涂层之一面。如申请专利范围第3项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第三光固化胶层系自该母板被离形,而转至该第二光固化胶层背对该第一介质层之一面。如申请专利范围第3项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第二基材之材质系为透光塑胶或玻璃之其一。如申请专利范围第3项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第一介质层系为金油。如申请专利范围第3项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第二光固化胶层及该第三光固化胶层系为UV胶。如申请专利范围第3项所述之具立体纹路结构之基板,其中该母板系为金属材质。如申请专利范围第1项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第一基材与该第一光固化胶层之间更包含:一第二色彩涂层,系设在该第一基材之一面;一第二介质层,系设在该第二色彩涂层背对该第一基材之一面;以及一第二强化胶层,系设在该第二介质层背对该第二色彩涂层之一面。如申请专利范围第15项所述之具立体纹路结构之基板,其中该子板之一面设有一立体结构,且该立体结构设有立体视觉之纹路。如申请专利范围第15项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第二色彩涂层系为UV油墨。如申请专利范围第15项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第二介质层系为金油。如申请专利范围第15项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第二强化胶层系为UV胶。如申请专利范围第16项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第一光固化胶层系自该子板被离形,而转至该第二强化胶层背对该第二介质层之一面。如申请专利范围第16项所述之具立体纹路结构之基板,其中该子板之材质系为透光塑胶或玻璃之其一。如申请专利范围第17项所述之具立体纹路结构之基板,其中该第一光固化胶层具有离形性。
地址 桃园县龟山乡华亚科技园区华亚一路36号