| 主权项 |
一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置，包括：一腔体，为竖直的壳体并具有前、后面以及左、右两侧，在该腔体内部以贯穿左、右两侧的形态穿设一溅镀空间；以及一水冷导引构造，设置在该溅镀空间内的顶部，并且在该腔体顶部的底面以左、右间隔的形态结合多个分别朝下垂直延伸的基板支架杆，在多数个基板支架杆的底端结合一基板，为沿左、右方向延伸的长板体，在该基板的顶面结合一水冷管，又在该基板的底面结合多个朝下凸伸的滚轮座，在各滚轮座底部的周面以可旋转的形态套设一滚轮。如申请专利范围第1项所述之立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置，其中在所述基板的前、后两侧缘分别形成一朝上弯曲延伸的立板部，在前、后各立板部的内面与该基板底部的顶面之间分别形成一弧形且沿左、右方向延伸的弧曲面；所述水冷管为U形的管体且沿左、右方向延伸，以该水冷管前、后两侧的外面贴设抵靠在两弧曲面。如申请专利范围第1或2项所述之立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置，其中所述各个滚轮座是以左、右间隔的形态结合在所述基板底面的中间。 |
