发明名称 具有电压追踪之定电流源装置
摘要
申请公布号 TWM410241 申请公布日期 2011.08.21
申请号 TW100200733 申请日期 2011.01.13
申请人 联阳半导体股份有限公司 发明人 陈东山;陈昱瑾;周宜群
分类号 G05F3/02 主分类号 G05F3/02
代理机构 代理人
主权项 一种具有电压追踪之定电流源装置,包含:一第一N型MOS电晶体;一第二N型MOS电晶体,该第二N型MOS电晶体之闸极与该第一N型MOS电晶体之闸极连接;一电流源,该电流源与该第一N型MOS电晶体之汲极连接;以及一运算放大器,该运算放大器之一输入端与该第一N型MOS电晶体之汲极连接、该运算放大器之另一输入端与该第二N型MOS电晶体之汲极连接,且该运算放大器之输出端与该第一N型MOS电晶体之闸极连接。如申请专利范围第1项所述之具有电压追踪之定电流源装置,其中,该第二N型MOS电晶体之汲极连接至一负载。如申请专利范围第2项所述之具有电压追踪之定电流源装置,其中该负载为发光二极体串。
地址 新竹市新竹科学工业园区创新一路13号3楼