发明名称 | 具有电压追踪之定电流源装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWM410241 | 申请公布日期 | 2011.08.21 |
申请号 | TW100200733 | 申请日期 | 2011.01.13 |
申请人 | 联阳半导体股份有限公司 | 发明人 | 陈东山;陈昱瑾;周宜群 |
分类号 | G05F3/02 | 主分类号 | G05F3/02 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 一种具有电压追踪之定电流源装置,包含:一第一N型MOS电晶体;一第二N型MOS电晶体,该第二N型MOS电晶体之闸极与该第一N型MOS电晶体之闸极连接;一电流源,该电流源与该第一N型MOS电晶体之汲极连接;以及一运算放大器,该运算放大器之一输入端与该第一N型MOS电晶体之汲极连接、该运算放大器之另一输入端与该第二N型MOS电晶体之汲极连接,且该运算放大器之输出端与该第一N型MOS电晶体之闸极连接。如申请专利范围第1项所述之具有电压追踪之定电流源装置,其中,该第二N型MOS电晶体之汲极连接至一负载。如申请专利范围第2项所述之具有电压追踪之定电流源装置,其中该负载为发光二极体串。 | ||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区创新一路13号3楼 |