发明名称 光资讯记录媒体及光资讯记录媒体之制造方法
摘要
申请公布号 TWI347605 申请公布日期 2011.08.21
申请号 TW097101539 申请日期 2008.01.15
申请人 胜利股份有限公司;胜利先进光盘股份有限公司 发明人 田畑浩;须本宇航
分类号 G11B7/24 主分类号 G11B7/24
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种光资讯记录媒体,其特征为,具备:基板;和覆盖层,系被资讯记录或再生用的光线所入射;和反射膜、第1介电体膜、记录膜、第2介电体膜,系在前记基板与前记覆盖层之间,从前记基板侧起依此顺序层积而成;和防湿膜,系被设在前记第2介电体膜和前记覆盖层之间,含有铟氧化物的至少一部份系为非晶质。如申请专利范围第1项所记载之光资讯记录媒体,其中,前记防湿膜,系含有:锡氧化物、钨氧化物、铈氧化物之中的至少1者。如申请专利范围第1项所记载之光资讯记录媒体,其中,前记防湿膜,系含有20mol%以上而未满80mol%的锡氧化物。如申请专利范围第1至3之任一项所记载之光资讯记录媒体,其中,在前记第2介电体膜和前记覆盖层之间具有保护膜,前记防湿膜系被设在前记第2介电体膜和前记保护膜之间。一种光资讯记录媒体之制造方法,其特征为,含有:在基板上,藉由溅镀而至少将反射膜、第1介电体膜、记录膜、第2介电体膜,依照此一顺序加以层积之工程;和在前记第2介电体膜上,使用添加有锡氧化物、钨氧化物、铈氧化物之中的至少1者的铟氧化物之靶材,藉由溅镀而将防湿膜予以层积之工程;和在前记防湿膜上藉由旋转涂布来形成保护膜之工程,和在前记保护膜上黏贴覆盖层的工程。一种光资讯记录媒体之制造方法,其特征为,含有:在基板上,藉由溅镀而至少将反射膜、第1介电体膜、记录膜、第2介电体膜,依照此一顺序加以层积之工程;和在前记第2介电体膜上,使用添加有锡氧化物、钨氧化物、铈氧化物之中的至少1者的铟氧化物之靶材,藉由溅镀而将防湿膜予以层积之工程;和在前记防湿膜上藉由旋转涂布来形成作为覆盖层的树脂层之工程。一种光资讯记录媒体之制造方法,其特征为,含有:在基板上,藉由溅镀而至少将反射膜、第1介电体膜、记录膜、第2介电体膜,依照此一顺序加以层积之工程;和在前记第2介电体膜上,使用添加有锡氧化物、钨氧化物、铈氧化物之中的至少1者的铟氧化物之靶材,藉由溅镀而将防湿膜予以层积之工程;和在前记防湿膜上藉由旋转涂布来形成紫外线硬化树脂之保护膜之工程;和在前记保护膜上载置覆盖层的工程;和从前记覆盖层侧照射紫外线以促使前记保护膜硬化,而使前记覆盖层黏贴至前记保护膜之工程。
地址 日本