发明名称 Verfahren zur Nachbehandlung eines Halbleiterwerkstoffes fuer Richtleiter, Transistoren u. dgl.
摘要
申请公布号 DE1033784(B) 申请公布日期 1958.07.10
申请号 DE1954S041845 申请日期 1954.12.07
申请人 SIEMENS-SCHUCKERTWERKE AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 SCHWEICKERT DR. RER. NAT. HANS
分类号 C30B13/00 主分类号 C30B13/00
代理机构 代理人
主权项
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