| 主权项 |
一种波长板，其特征为对于波长不同的单色光具有相同偏光特性的波长板，必须对于下述式(1)所定义之波长λ(nm)之光，提供(1+X)λ之位相差的位相差薄膜(A)，使对此提供(1/4+Y/2)λ之位相差的位相差薄膜(B)或提供(1/2+Z)λ之位相差的位相差薄膜(C)以彼等之光轴与位相差薄膜(A)之光轴交叉般叠层而成〔此处，X、Y及Z分别独立为0或1以上之整数〕〔(λS+λL)/2〕-200≦λ≦〔(λS+λL)/2〕+200………式(1)λS：最短波长侧之单色光的波长(nm)λL：最长波长侧之单色光的波长(nm)。如申请专利范围第1项之波长板，其中位相差薄膜被接黏至透明支撑体。如申请专利范围第1项之波长板，其中位相差薄膜为由含有环状烯烃系树脂之材料所构成。如申请专利范围第1项~第3项中任一项之波长板，其为使用波长550nm之光中的位相差(Re550)、与波长800nm中之位相差(Re800)的比(Re800/Re550)为0.90~1.05的位相差薄膜。如申请专利范围第1项~第3项中任一项之波长板，其中环状烯烃系树脂为由@sIMGCHAR!d10050.TIF@eIMG!下述一般式(1)所示之特定单体的开环聚合物、@sIMGCHAR!d10054.TIF@eIMG!下述一般式(1)所示之特定单体与共聚性单体的开环共聚物、@sIMGCHAR!d10055.TIF@eIMG!上述@sIMGCHAR!d10056.TIF@eIMG!或@sIMGCHAR!d10057.TIF@eIMG!之开环(共)聚合物之氢化(共)聚合物、@sIMGCHAR!d10058.TIF@eIMG!将上述@sIMGCHAR!d10059.TIF@eIMG!或@sIMGCHAR!d10051.TIF@eIMG!之开环(共)聚合物经由弗瑞德(Friedel)接枝反应予以环化后，予以氢化的(共)聚合物、@sIMGCHAR!d10052.TIF@eIMG!下述一般式(1)所示之特定单体与含有不饱和双键之化合物的饱和共聚物、及@sIMGCHAR!d10053.TIF@eIMG!下述一般式(1)所示之特定单体、乙烯基系环状烃系单体及环戊二烯系单体所选出之一种以上之单体的加成型(共)聚合物及其氢化(共)聚合物之群中选出至少一种，@sIMGTIF!d10003.TIF@eIMG!〔式中，R1~R4系分别为氢原子、卤原子、碳数1~30个之烃基、或其他之一价有机基，分别可相同或相异，R1与R2或R3与R4可一体化形成二价烃基，且R1或R2与R3或R4可彼此结合，形成单环或多环构造，m为0或正整数，p为0或正整数〕。 |
