发明名称 产生非同调辐射之反射回路系统
摘要
申请公布号 TWI347451 申请公布日期 2011.08.21
申请号 TW096119536 申请日期 2007.05.31
申请人 ASML公司 发明人 乔哈奈 贾可布 马瑟斯 巴赛曼;上山宪司
分类号 G02B27/09;G03F7/20 主分类号 G02B27/09
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种系统,其包含:一辐射源,其产生一同调或部分同调之光束;及一反射回路系统,其包含一反射装置,该反射装置包含至少一开孔,且该反射装置经组态以透过一或多个回路反射该同调或部分同调之光束,该等回路之每一者包含四个反射器,以形成一较非同调之光束,其中该光束透过该至少一开孔进入或离开该反射回路系统,且其中该反射回路系统包含一场平面及一光瞳平面。如请求项1之系统,其中该反射回路系统包含一第一及第二反射装置。如请求项2之系统,其中该第一反射装置与该第二反射装置都为曲面的。如请求项2之系统,其中该第一反射装置及该第二反射装置中之至少一者包含第一部分及第二部分,且该第一部分及该第二部分中之至少一者相对于该第一反射装置及该第二反射装置之各别反射表面未对准。如请求项1之系统,其中该反射回路系统包含第二至第四反射装置。如请求项5之系统,其中该等四个反射装置包含三个平面反射装置及一曲面反射装置。如请求项1之系统,其中该反射回路系统包含具有相对于彼此倾斜之各别反射表面之反射装置,使得形成非重叠回路。如请求项1之系统,其中:使用一第一光学装置将该部分同调之光束内耦合至该反射回路系统中;及使用一第二光学装置自该反射回路系统外耦合该非同调光束。如请求项1之系统,其中该反射回路系统包括两个场平面及两个光瞳平面。如请求项1之系统,其中该反射回路系统进一步包含:一第二反射装置,其与该反射回路系统之一场相关联;及一第三反射装置,其与该反射回路系统之一光瞳相关联,其中基于在该第二反射装置及该第三反射装置之各别反射表面之间的未对准而改变该场或该光瞳之一位置。如请求项1之系统,其中该反射回路系统经组态使得:在每一回路之后自该反射回路系统透射该非同调光束之一第一部分,且沿该等回路中之另一者导向该非同调光束之一剩余部分。如请求项1之系统,其中:该非同调光束透射穿过该反射回路系统之一光瞳或一场中之一者;及在该反射回路系统之该光瞳或该场中的另一者处接收该至少部分同调之光束。如请求项1之系统,其进一步包含:一图案化装置,其图案化该非同调光束;及一投影系统,其将该非同调光束投影至一基板之一目标部分上。如请求项13之系统,其进一步包含:一照明系统,其处理该非同调光束且将该非同调光束导向至该图案化装置上。如请求项14之系统,其中该照明系统包含该辐射源及该反射回路系统。如请求项1之系统,其中该回路之一路径长度大于该至少部分同调之光束之一时间同调长度。如请求项1之系统,其进一步包含:一或多个额外反射回路系统,其经组态以自一上游反射回路系统接收一各别非同调光束且使该非同调光束反射通过一回路以形成另一非同调光束。一种微影系统,其包含:一照明系统,其产生一辐射照明光束,该照明系统包含:一辐射源;及一反射回路系统,其包含一反射装置,该反射装置包含至少一开孔,其中该反射装置经组态以透过一或多个回路反射一部分同调之光束,该等回路之每一者包含四个反射器,以形成一较非同调之光束,其中该光束透过该至少一开孔进入或离开该反射回路系统;一图案化装置,其图案化该辐射照明光束;及一投影系统,其将该图案化光束投影至一基板之一目标部分上。如请求项18之微影系统,其中该反射回路系统经组态:使得在每一回路之后自该反射回路系统透射该非同调光束之一第一部分,且沿该等回路中之另一者导向该非同调光束之一剩余部分。如请求项18之微影系统,其中该反射回路系统包含该反射装置及一或多个额外反射装置,其具有相对于彼此倾斜之各别反射表面使得形成非重叠回路路径。一种元件制造方法,其包含:使用一反射回路系统,其包含一反射装置,该反射装置包含至少一开孔,其中该反射装置经组态以透过一或多个回路反射一同调或部分同调之光束,以形成一非同调光束,该等回路之每一者包含四个反射器,其中该光束透过该至少一开孔进入或离开该反射回路系统;自该非同调光束形成一照明光束;图案化该照明光束;及将该图案化照明光束投影至一基板之一目标部分上。如请求项21之方法,其中在每一回路之后,该非同调光束形成一照明光束之步骤中该非同调光束之一第一部分形成于之该照明光束中,且沿该等回路中之另一者导向该非同调光束之一剩余部分。如请求项21之方法,其中使用一反射回路系统之步骤包含使反射装置之各别反射表面相对于彼此倾斜以形成非重叠回路路径。一种输出一非同调输出光束之雷射,其包含:一辐射源,其产生一同调或部分同调之光束;及一反射回路系统,其包含一反射装置,该反射装置包含至少一开孔,其中该反射装置经组态以接收该同调或部分同调之光束且透过该一或多个回路反射该部分同调之光束,以形成该非同调输出光束,其中该光束透过该至少一开孔进入或离开该反射回路系统,且其中该反射回路系统包含一场平面及一光瞳平面。如请求项24之雷射,其中该反射回路系统经组态使得:在每一回路之后自该反射回路系统透射该非同调光束之一第一部分,且沿该等回路中之另一者导向该非同调光束之一剩余部分。如请求项24之雷射,其中该反射回路系统包含该反射装置及一或多个额外反射装置,其具有相对于彼此倾斜之各别反射表面使得形成非重叠回路路径。一种输出一非同调照明光束之照明器,其包含:一辐射源,其产生一同调或部分同调之光束;及一反射回路系统,其包含一反射装置,该反射装置包含至少一开孔,其中该反射装置经组态以接收该部分同调之光束且透过一或多个回路反射该部分同调之光束,以形成该非同调照明光束,其中该光束透过该至少一开孔进入或离开该反射回路系统,且其中该反射回路系统包含一场平面及一光瞳平面。如请求项27之照明器,其中该反射回路系统经组态使得:在每一回路之后自该反射回路系统透射该非同调光束之一第一部分,且沿该等回路中之另一者导向该非同调光束之一剩余部分。如请求项27之照明器,其中该反射回路系统包含该反射装置及一或多个额外反射装置,其具有相对于彼此倾斜之各别反射表面使得形成非重叠回路路径。
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