| 摘要 |
<p>Une source de déposition d'un matériau en phase vapeur comportant une enceinte pourvue de deux zones est décrite. La première zone est une zone de production de vapeur dotée d'un réceptacle du matériau et de moyens de chauffage du matériau placé dans le réceptacle. La seconde est une zone de diffusion présentant une chambre en liaison avec la zone de production et dotée d'au moins un orifice de sorte à transmettre le matériau en phase vapeur vers l'extérieur de l'enceinte à travers l'orifice. La source est caractérisée en ce que, d'une part, la chambre comporte une paroi intérieure et une enveloppe extérieure délimitant un espace intermédiaire rempli d'un fluide caloporteur et, d'autre part, qu'elle est munie de moyens de chauffage de la vapeur.</p> |
