发明名称 TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP SENSIBLE AUX GAZ ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
摘要 <p>Transistor à effet de champ sensible aux gaz (100) ayant un substrat semi-conducteur (138) avec une couche d'isolation (110) couvrant en partie la surface principale du substrat et ayant dans la région de porte (140), une ouverture (135) à parois inclinées (137). Le transistor (100) a une couche d'électrode de porte (155) qui couvre au moins une partie de la première surface principale de la couche (110), les parois inclinées (137) de l'ouverture (135) ainsi qu'une zone de la région de porte (140). La couche (155) modifie ses propriétés électriques au contact d'un gaz prédéfini.</p>
申请公布号 FR2956483(A1) 申请公布日期 2011.08.19
申请号 FR20110051245 申请日期 2011.02.16
申请人 ROBERT BOSCH GMBH 发明人 KRAUSS ANDREAS;LE-HUU MARTIN
分类号 G01N27/44;H01L21/335;H01L29/772 主分类号 G01N27/44
代理机构 代理人
主权项
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