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发明名称 DEPOSITION RATE CONTROL
摘要 <p>An vapor deposition control system includes a multi-level control scheme.</p>
申请公布号 WO2011100506(A1) 申请公布日期 2011.08.18
申请号 WO2011US24456 申请日期 2011.02.11
申请人 FIRST SOLAR, INC.;BECK, MARKUS, E.;BODKE, ASHISH;BONNE, ULRICH, ALEXANDER;GARABEDIAN, RAFFI;MILSHTEIN, EREL;YU, MING LUN 发明人 BECK, MARKUS, E.;BODKE, ASHISH;BONNE, ULRICH, ALEXANDER;GARABEDIAN, RAFFI;MILSHTEIN, EREL;YU, MING LUN
分类号 G01N21/31;G01J3/42 主分类号 G01N21/31
代理机构 代理人
主权项
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