<p>Eine Vorrichtung zum Transport von Siliziumwafern in einer horizontalen Transportrichtung in eine Druckeinrichtung weist zwei Transporteinheiten auf, die jeweils eine Verfahreinrichtung und ein Haltemittel daran aufweisen. Mindestens zwei Transporteinheiten mit jeweils einem Haltemittel sind vorgesehen, wobei deren Verfahreinrichtungen nebeneinander entlang der Transportrichtung verlaufen. Die Haltemittel sind jeweils so ausgebildet und angeordnet, dass ein unbeladenes Haltemittel an einem mit einem Siliziumwafer beladenen Haltemittel vorbei passt. Die Verfahreinrichtungen sind Schienen und die Haltemittel sind daran gelagerte Schlitten.</p>
申请公布号
WO2011098157(A1)
申请公布日期
2011.08.18
申请号
WO2010EP62915
申请日期
2010.09.02
申请人
SCHMID TECHNOLOGY GMBH;SOLLNER, JUERGEN;SAUTER, THOMAS;MUENKEL, JENS;BUCHNER, CHRISTIAN
发明人
SOLLNER, JUERGEN;SAUTER, THOMAS;MUENKEL, JENS;BUCHNER, CHRISTIAN