发明名称 |
电容性微机械加工的超声换能器 |
摘要 |
本申请公开了一种电容性微机械加工的超声换能器,其包括:硅衬底;腔;第一电极,其被布置在硅衬底和腔之间;其中,第一电极被布置在腔之下;膜,其中,膜被布置在腔之上并且与第一电极相对;第二电极,其中,第二电极被布置在腔之上并且与第一电极相对;其中,第二电极被布置在膜内或靠近膜,其中,第一电极和第二电极适于由电压供应;以及第一隔离层,其被布置在第一电极和第二电极之间,其中,第一隔离层包括电介质。还描述了用于生成或检测超声波的系统,其中,该系统包括根据本申请的换能器。此外,公开了一种用于制造根据本申请的换能器的方法,其中,借助于CMOS制造工艺制造换能器,其中,可以按照CMOS工艺期间的后处理特征制造换能器。 |
申请公布号 |
CN102159334A |
申请公布日期 |
2011.08.17 |
申请号 |
CN200980135888.7 |
申请日期 |
2009.09.08 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
J·H·克鲁特威克;P·迪克森;M·米尔德;E·M·L·穆纳恩 |
分类号 |
B06B1/02(2006.01)I |
主分类号 |
B06B1/02(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
王英;刘炳胜 |
主权项 |
一种电容性微机械加工的超声换能器,包括硅衬底(209);腔(205);第一电极(207),其被布置在所述硅衬底(209)和所述腔(205)之间;其中,所述第一电极(207)被布置在所述腔(205)之下;膜,其中,所述膜被布置在所述腔(205)之上,并与所述第一电极(207)相对;第二电极(203),其中,所述第二电极(203)被布置在所述腔(205)之上,并与所述第一电极(207)相对;其中,所述第二电极(203)被布置在所述膜中或靠近所述膜,其中,所述第一电极(207)和所述第二电极(203)适于由电压供应;以及第一隔离层(204),其被布置在所述第一电极(207)和所述第二电极(203)之间,其中,所述第一隔离层(204)包括电介质。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬 |