METHOD FOR TREATING PHOTORESIST-CONTAINING WASTE WATER

摘要

Bei einem Verfahren zur Behandlung von fotolackhaltigen Abwässern, die bei fotolithographischen Verfahrensschritten, insbesondere bei der Herstellung von Leiterplatten, Solarzellen o.dgl. anfallen, wird mit Hilfe von UV-Licht das Abwasser in Gegenwart mindestens eines Oxidationsmittels und mindestens eines Übergangsmetallkations mit dem UV- Licht bestrahlt. Dabei wird aus dem Abwasser ein Feststoff, der mindestens einen Teil des Fotolacks und mindestens einen Teil des Übergangsmetalls enthält, gebildet. Dieser Feststoff kann vorzugsweise aus einem UV-Reaktor mit Hilfe einer Säure oder Säurelösung als Reinigungsmittel abgereinigt werden.