发明名称 图形化蓝宝石衬底的制作方法
摘要 本发明涉及一种图形化蓝宝石衬底的制作方法,包括步骤:对待光刻的衬底进行匀胶处理;将掩模板与所述衬底对准安装,并将所述掩模板按设定距离设置在所述衬底上方;根据预设的曝光条件进行投影曝光;对曝光后的衬底进行显影处理;对显影后的衬底进行烘烤处理,将衬底表面的光刻胶作为刻蚀的掩膜;设定刻蚀腔的温度和真空度、屏蔽罩的温度以及冷却循环机的控制温度后,将烘烤处理后的衬底放入刻蚀腔中的载片基台上;通入刻蚀气体对衬底进行刻蚀,通过阳极射频源功率和偏压射频源功率控制刻蚀速度和质量;同时通过所述冷却循环机对所述载片基台进行冷却。采用本方法图形衬底生产率高,使用该衬底生产的芯片出光效率高且稳定。
申请公布号 CN102157629A 申请公布日期 2011.08.17
申请号 CN201010604424.0 申请日期 2010.12.24
申请人 长治虹源科技晶体有限公司 发明人 谢雪峰;李明远;郭爱华
分类号 H01L33/00(2010.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2010.01)I
代理机构 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 代理人 林俭良
主权项 一种图形化蓝宝石衬底的制作方法,其特征在于,包括步骤:S1、对待光刻的衬底进行匀胶处理;S2、将掩模板与所述衬底对准安装,并将所述掩模板按设定距离设置在所述衬底上方;S3、根据预设的曝光条件进行投影曝光;S4、对曝光后的衬底进行显影处理;S5、对显影后的衬底进行烘烤处理,将衬底表面的光刻胶作为刻蚀的掩膜;S6、设定刻蚀腔的温度和真空度、屏蔽罩的温度以及冷却循环机的控制温度后,将烘烤处理后的衬底放入刻蚀腔中的载片基台上;S7、通入刻蚀气体对衬底进行刻蚀,通过阳极射频源功率和偏压射频源功率控制刻蚀速度和质量;同时通过所述冷却循环机对所述载片基台进行冷却。
地址 046000 山西省长治市城区解放东街绿桥生态园3号楼