发明名称 SYSTEM AND METHOD FOR RECYCLING A GAS USED TO DEPOSIT A SEMICONDUCTOR LAYER
摘要
申请公布号 EP2356673(A2) 申请公布日期 2011.08.17
申请号 EP20090832564 申请日期 2009.12.10
申请人 THINSILICON CORPORATION 发明人 STEPHENS, JASON, M.;STIMSON, BRADLEY, O.;HUSSEN, GULEID, N.
分类号 H01L21/205;C23C16/44;C23C16/455;H01L21/02;H01L21/285 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利