发明名称 毛发化妆材料
摘要 本发明提供一种含有以下成分(A)~(C)、抗冲洗类型的毛发化妆材料及使用其处理毛发的毛发处理方法。具有:(A)有机二羧酸或其盐;(B)选自芳香族醇、N一烷基吡咯烷酮、碳酸亚烃酯、数均分子量100~1000的聚丙二醇、内酯及环酮的有机溶剂;(C)在有机聚硅氧烷部分的至少1个硅原子上,通过含有杂原子的亚烷基,结合下述通式(1)表示的重复单元构成的聚(N-酰基亚烷基亚胺)构成,且该有机聚硅氧烷部分与该聚(N-酰基亚烷基亚胺)部分的重量比为98/2~40/60、重均分子量为50,000~500,000的有机聚硅氧烷,<img file="b05193872820050908a000011.GIF" wi="691" he="159" />式中,R<sup>1</sup>表示H、碳原子数1~22的烷基、环烷基、芳烷基或芳基,n表示2或3的数。
申请公布号 CN1742701B 申请公布日期 2011.08.17
申请号 CN200510093872.8 申请日期 2005.08.31
申请人 花王株式会社 发明人 多田路子;石井桂子;七里紫阳;岩濑珠实
分类号 A61K8/89(2006.01)I;A61Q5/02(2006.01)I 主分类号 A61K8/89(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 1.一种抗冲洗类型的毛发化妆材料,其特征在于,含有以下成分(A)~(C),(A)有机二羧酸或其盐:0.1~30重量%,其中,所述有机二羧酸是丙二酸或苹果酸;(B)苯甲醇或者2-苄氧基乙醇:0.1~40重量%;(C)有机聚硅氧烷:0.1~10重量%,该有机聚硅氧烷是在有机聚硅氧烷部分的至少1个硅原子上,通过含有杂原子的亚烷基,结合下述通式(1)表示的重复单元构成的聚(N-酰基亚烷基亚胺)构成,且该有机聚硅氧烷部分与该聚(N-酰基亚烷基亚胺)部分的重量比为94/6~60/40、重均分子量为100,000~300,000的有机聚硅氧烷,<img file="FSB00000015483500011.GIF" wi="699" he="166" />式中,R<sup>1</sup>表示氢原子或碳原子数1~22的烷基,n表示2或3的数,所述含有杂原子的亚烷基是含有1~3个氮原子、氧原子及/或硫原子的碳原子数2~20的亚烷基。
地址 日本东京都
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