发明名称 Ein Verbrauchsisolationsring für eine bewegbare Substratauflageanordnung einer Plasmaverarbeitungskammer
摘要 Verbrauchsisolationsring einer kapazitivgekoppelten Plasmaverarbeitungskammer mit einstellbarem Zwischenraum, wobei der Verbrauchsisolationsring mit einem rechteckigen Querschnitt aufweist: einen Innendurchmesser von etwa 375,92 mm (14,8 Inch), einen Außendurchmesser von etwa 383,54 mm (15,1 Inch) und eine Höhe von etwa 7,62 mm (0,3 Inch) sowie drei Aussparungen, die um 120° in azimutaler Richtung beabstandet und in einem unteren äußeren Rand des Verbrauchsisolationsrings angeordnet sind, wobei: jede Aussparung einen halbzylinderwandigen Teil mit einem Durchmesser von etwa 2,54 mm (0,1 Inch) aufweist, wobei eine Mittelachse des halbzylinderwandigen Teils in einem Radius von etwa 190,5 mm (7,5 Inch) von einer Mittelachse des Verbrauchsisolationsrings angeordnet ist; jede Aussparung einen gradwandigen Teil aufweist, der auf einer äußeren Oberfläche des Verbrauchsisolationsrings offen ist, wobei der gradwandige Teil eine Breite aufweist, die gleich dem Durchmesser des halbzylinderwandigen Teils ist, und mit dem halbzylinderwandigen Teil verbunden ist; und jede Aussparung eine Tiefe von etwa 2,286 mm (0,09 Inch)...
申请公布号 DE202011102439(U1) 申请公布日期 2011.08.17
申请号 DE201120102439U 申请日期 2011.06.28
申请人 LAM RESEARCH CORPORATION (DELAWARE CORPORATION) 发明人
分类号 H05H1/46 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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