| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、过氧化氢、过硫酸盐和水，所述的化学机械抛光液的pH为9～12。本发明的化学机械抛光液具有较高的钨的去除速率。 | ||
| 申请公布号 | CN102159657A | 申请公布日期 | 2011.08.17 |
| 申请号 | CN200980137056.9 | 申请日期 | 2009.10.09 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 王晨 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | PCT国内申请，权利要求书已公开。 | ||
| 地址 | 201203 中国上海市浦东张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||