一种高压二次电路保洁剂及其制备方法

摘要

本发明提供一种高压二次电路保洁剂，包含以下质量百分比的组成成分：聚乙二醇辛基苯醚1～20％，壬基酚聚氧乙烯醚1～20％，正溴丙烷1～3％，C2Cl3H3 10～20％，C3HCl2F5 5～60％。本发明还提供该高压二次电路保洁剂的制备方法，包括以下步骤：将上述各组分按比例装入密闭容器，在温度为20～30℃，常压下反应1小时。本保洁剂无环境污染，腐蚀性低，物理分解能力强，使用安全可靠，可迅速、彻底清除各种精密设备电路表面及深层的尘土、油污、碳渍、盐分、潮气、金属尘埃及各种带电粒子，有效消除“软性故障”，保证设备的最佳工作状态，降低维护成本。

主权项

一种保洁剂，其特征在于，按以下质量百分比的组成成分为：聚乙二醇辛基苯醚1～20％，壬基酚聚氧乙烯醚1～20％，CFCl2CH3 10～20％，正溴丙烷1～3％，C4F9OCH320～40％，硅油0.5～2％；选自以下组分的一种或多种：低级烷烃、具有碳原子数为1～4的烷基取代基的低级烷烃、低级醇类、低级烯烃；所述低级烷烃为庚烷0～1％、己烷0～1％、辛烷0～1％；所述具有碳原子数为1～4的烷基取代基的低级烷烃为甲基戊烷0～1％、甲基己烷0～1％、二甲基己烷0～1％、甲基庚烷0～1％、甲基环己烷0～1％、乙基戊烷0～1％、二甲基环戊烷0～1％、四甲基丁烷0～1％、甲基乙基己烷0～1％、三甲基戊烷0～1％；所述低级醇类为乙醇0～1％；所述低级烯烃为乙烯0～1％。