| 发明名称 | 一种单晶硅清洗液及预清洗工艺 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种单晶硅清洗液及预清洗工艺。所述的单晶硅清洗液，其特征在于，由强碱、过氧化氢和水组成。所述的单晶硅预清洗工艺，其特征在于，具体步骤为：按比例将氢氧化钠、过氧化氢和水混合配制成单晶硅清洗液，加热到60～80℃；将原始硅片放入单晶硅清洗液中清洗。本发明的优点是：不仅可以达到较好的清洗效果，而且具有较好的稳定性、不易挥发，降低生产成本。 | ||
| 申请公布号 | CN102154711A | 申请公布日期 | 2011.08.17 |
| 申请号 | CN201010618904.2 | 申请日期 | 2010.12.31 |
| 申请人 | 百力达太阳能股份有限公司 | 发明人 | 陆海斌;石劲超 |
| 分类号 | C30B33/10(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 主分类号 | C30B33/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人 | 翁若莹 |
| 主权项 | 一种单晶硅清洗液，其特征在于，由强碱、过氧化氢和水组成。 | ||
| 地址 | 314512 浙江省嘉兴市桐乡市河山镇工业园 | ||