发明名称 |
一种高透过纳米二氧化硅减反射薄膜及其制备方法和应用 |
摘要 |
本发明公开了一种高透过纳米二氧化硅减反射薄膜及其制备与应用,所述薄膜是以纳米二氧化硅为基质,以聚氨酯、丙烯酸树脂等树脂为成膜剂,以普通光学玻璃、ITO玻璃、氧化铝玻璃等为基片,用浸渍提拉法或者旋涂法镀膜的减反射薄膜。本发明薄膜对可见光及近红外光的单面增透率可达4%,双面涂膜可使玻璃透过率达到99%。该薄膜应用在太阳能电池玻璃板上,能提高太阳电池对光的吸收,从而提高太阳能电池的效率。应用在平板显示以及光学镜头上,可以提高图像的清晰度和亮度。本发明产品安全无毒、化学性质稳定、易于长期保存;且制备工艺简单易操作,原料价廉易得,反应过程基本没有工业三废,具有绿色环保、低能耗、高效益等特点,适合工业化生产。 |
申请公布号 |
CN102153292A |
申请公布日期 |
2011.08.17 |
申请号 |
CN201010606834.9 |
申请日期 |
2010.12.27 |
申请人 |
上海师范大学 |
发明人 |
余锡宾;彭颖杰;汪正军 |
分类号 |
C03C17/23(2006.01)I;C03C17/28(2006.01)I;C03C17/34(2006.01)I |
主分类号 |
C03C17/23(2006.01)I |
代理机构 |
上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 |
代理人 |
张美娟 |
主权项 |
高透过纳米二氧化硅减反射薄膜无机材料,其特征在于:是以纳米二氧化硅为基质;以聚氨酯、丙烯酸树脂聚合物为成膜剂;以普通光学玻璃、ITO玻璃和氧化铝玻璃中的一种为基片;用浸渍提拉法或者旋涂法镀膜的减反射薄膜。 |
地址 |
200234 上海市徐汇区桂林路100号 |