发明名称 一种高透过纳米二氧化硅减反射薄膜及其制备方法和应用
摘要 本发明公开了一种高透过纳米二氧化硅减反射薄膜及其制备与应用,所述薄膜是以纳米二氧化硅为基质,以聚氨酯、丙烯酸树脂等树脂为成膜剂,以普通光学玻璃、ITO玻璃、氧化铝玻璃等为基片,用浸渍提拉法或者旋涂法镀膜的减反射薄膜。本发明薄膜对可见光及近红外光的单面增透率可达4%,双面涂膜可使玻璃透过率达到99%。该薄膜应用在太阳能电池玻璃板上,能提高太阳电池对光的吸收,从而提高太阳能电池的效率。应用在平板显示以及光学镜头上,可以提高图像的清晰度和亮度。本发明产品安全无毒、化学性质稳定、易于长期保存;且制备工艺简单易操作,原料价廉易得,反应过程基本没有工业三废,具有绿色环保、低能耗、高效益等特点,适合工业化生产。
申请公布号 CN102153292A 申请公布日期 2011.08.17
申请号 CN201010606834.9 申请日期 2010.12.27
申请人 上海师范大学 发明人 余锡宾;彭颖杰;汪正军
分类号 C03C17/23(2006.01)I;C03C17/28(2006.01)I;C03C17/34(2006.01)I 主分类号 C03C17/23(2006.01)I
代理机构 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人 张美娟
主权项 高透过纳米二氧化硅减反射薄膜无机材料,其特征在于:是以纳米二氧化硅为基质;以聚氨酯、丙烯酸树脂聚合物为成膜剂;以普通光学玻璃、ITO玻璃和氧化铝玻璃中的一种为基片;用浸渍提拉法或者旋涂法镀膜的减反射薄膜。
地址 200234 上海市徐汇区桂林路100号