| 发明名称 | 清洗方法及制造电子器件的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种清洗方法，其包括：通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。本发明还公开了一种制造电子器件的方法，其包括：制备工件；通过电解硫酸制备氧化溶液，并用所述氧化溶液清洗所述工件。所述氧化溶液通过混合热来加热以清洗所述工件。 | ||
| 申请公布号 | CN102157370A | 申请公布日期 | 2011.08.17 |
| 申请号 | CN201110066173.X | 申请日期 | 2008.02.13 |
| 申请人 | 芝浦机械电子株式会社;氯工程株式会社;株式会社东芝 | 发明人 | 柴田幸弘;速水直哉;加藤昌明;小林信雄 |
| 分类号 | H01L21/306(2006.01)I;C25B1/30(2006.01)I;C25B1/22(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/306(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 苗征;于辉 |
| 主权项 | 清洗方法，其包括：通过硫酸的电解制备氧化溶液，所述硫酸的浓度为90质量％或更高；以及用所述氧化溶液清洗工件，借助通过在所述氧化溶液中混合入纯水、过氧化氢溶液和臭氧水中的至少一种产生的混合热加热所述氧化溶液，在所述氧化溶液接触工件之后进行所述混合。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||