发明名称 黏尘清洁装置之位移调整模组
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.08.11
申请号 TW100203194 申请日期 2011.02.23
申请人 台郡科技股份有限公司 发明人 郭佑铭;金仕忠;施振四;曾松裕;连春智
分类号 H05K3/00 主分类号 H05K3/00
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种黏尘清洁装置之位移调整模组,其包含:一基座,其设有一容室,以及该基座一侧面上设有一连通且横跨容室的组接槽;以及一调整单元,其包含有一调整块、一弹性元件及一压杆,该调整块与弹性元件位于该基座的容室中,该调整块设有一配合组接槽的调整面,该弹性元件一端抵接该基座,另端抵接该调整块,该压杆设于该基座上,该压杆一端伸入该容室并抵接该调整块。如申请专利范围第1项所述之黏尘清洁装置之位移调整模组,其中,该调整块的调整面系为一斜面。如申请专利范围第1或2项所述之黏尘清洁装置之位移调整模组,其中,该基座包括有一基板,并于该基板上设有一座体,所述组接槽位于该座体上,该弹性元件一端抵接该基板。
地址 高雄市大寮区大发工业区莒光一街23号